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[专精特新TOP100]南大光电:打破技术垄断稳步推进国产替代 半导体材料多元布局已成气候

发布时间:2021-09-30 16:00网友原创评论

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  作者:SXX

  引言:随着我国经济发展进入更加重视质量与创新的新时代,一批“专业化、精细化、特色化、新颖化”的企业逐渐成为我国创新的发源地,资本市场的发展也在与时俱进,北交所设立的核心目标之一就是为“专精特新”中小企业服务。为此,新浪财经在浙商证券研究所策略研究团队提供的榜单数据支持基础上,推出“专精特新TOP100”系列报道,旨在外绝一批主营业务聚焦,创新能力强,成长性高,专注于细分市场的小巨人。

  2021年半年报显示,南大光电实现营业收入4.42亿元,同比增长 69.14%;归属于上市公司股东的净利润 8552.02 万元,同比下降 3.23%;考虑到上年同期出售参股公司股权确认的投资收益的一次性因素,主营利润的实际增长快速,上半年归属于上市公司股东的扣除非经常性损益后的净利润 6587.35 万元,同比增长 4013.99%。

  南大光电是一家专业从事先进电子材料高新技术企业,三大业务分别为先进前驱体材料、电子特气和光刻胶。

  MO源工艺领先打破国外垄断 市占率超40%

  MO源是光电产业的支撑材料之一,其纯度、品质对最终的光电器件或高频器件的质量和性能起着决定性作用。 MO源即高纯金属有机源,是利用先进的金属有机化学气相沉积(以下简称“MOCVD”)工艺生成化合物半导体材料的关键支撑原材料,因而又被称为MOCVD的“前驱体”。 MO源的质量直接决定了最终器件的性能,因此MOCVD工艺对MO源的质量要求很高,其中纯度是衡量MO源质量的关键指标。

  这个行业历史上一度属于国外垄断。2000 年南大光电成立时依托公司创始人孙祥祯先生的研发成果,公司 MO 源成功实现产业化,打破国外在这一光电子原材料领域的垄断地位。

  MO源行业具有寡头垄断市场特征。目前全球范围内MO源的生产厂商较少,只有中国、美国、欧洲、日本四个区域的少数几个公司拥有产业化生产的能力。

  公司是全球主要的MO源生产商,在国内市场处于领导地位。南大光电成长为全球 MO源主要生产商,全球市占率超过 40%,在 MO 源的合成制备、纯化技术、分析检测、封装容器等方面已全面达到国际先进水平。

  南大光电在MO源的合成制备、纯化技术、分析检测、封装容器等方面已全面达到国际先进水平,主要产品有三甲基镓、三甲基铟、三乙基镓、三甲基铝等,产品的纯度大于等于6N,可以实现MO源产品的全系列配套供应,同时可以根据客户需求提供定制产品服务,在激烈的市场竞争中,具有明显的竞争优势。

  与此同时,南大光电的合成环节采用独特的合金法,该方法和卤化物法相比工艺简单,原料无腐蚀性,副产物少,且价格便宜,有效解决 MO 源污染严重的问题。

  多元化布局对冲行业波动

  公司自 2017 年后 MO 源三甲基镓、三甲基铟占主营业务比重逐年降低,公司依赖 LED 行业景气度的情况得到改善,特气业务有效弥补了因 LED行业下行带来的 MO 源增速减缓。

  今年半年报显示,特气产品已经是公司收入第一大贡献源,且毛利率也较高,具体如下图:

  公司为了规避行业波动性,开始积极向其他半导体材料领域布局,包括全椒南大光电磷烷、砷烷产品的开发,收购飞源气体布局含氟特气业务,以及正在研发产业化当中的 ArF 光刻胶项目。

  在磷烷、砷烷产品方面,公司自 2013 年起立项攻关,在 2016 年完成一期量产,年产 35 吨高纯磷烷、15吨高纯砷烷,产品纯度均达到 6N 标准以上级。根据相关信息显示,目前公司已占据国内 75%市场份额,并进入英特尔、欧司朗、飞利浦等一流公司供应商名录。

  在氢类电子特气领域,公司打破了国外技术封锁和垄断,成功实现了国产磷烷、砷烷的产业化,实现进口替代,并快速占据国内市场份额,因此南大光电是国产磷烷、砷烷制造的领军企业。

  飞源气体方面,相比其他竞争对手具有成本优势和客户认证优势。根据公开信息显示,成本端国内主要竞争对手第一套 NF3 装置的总投资规模从 2.7 亿元/千吨到 4 亿元/千吨不等,行业中位数3.1 亿元。而飞源气体的 NF3 一套装置总投资远低于上述水平。目前,已成为国内集成电路及平板显示领域多家领军企业的重要供应商。

  光刻胶方面,公司正在自主研发和产业化的ArF光刻胶(包含干式及浸没式)可以达到90nm-14nm的集成电路工艺节点,将实现高端光刻胶材料的进口替代,提升国家关键材料领域自主可控水平,解决“卡脖子”技术难题。

  值得一提的是,2017及2018年,公司分别获得国家02专项“高分辨率光刻胶与先进封装光刻胶产品关键技术研发”和“ArF光刻胶产品的开发和产业化”项目的正式立项。经过几年的组织建设和技术攻关,上述项目分别于2020年5月和2021年7月通过国家02专项专家组的验收。

  此外,公司是国内ArF光刻胶研发和产业化的领先企业。 2020年12月,公司研发的ArF光刻胶产品在一家存储芯片制造企业的50nm闪存平台上通过认证,成为国内通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶,报告期内又在一家逻辑芯片制造企业55nm技术节点的产品上取得了认证突破,为ArF光刻胶的规模化量产奠定基础。公司正在积极推动客户验证和量产工作,相关配套材料产业化也在稳步推进。

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